Sıcaklık ve manyetik alan duyarlı poli(vinil asetat)/poli(vinil klorür)/polifuran üçlü kompozit ve nanokompozit filmlerinin hazırlanması ve karakterizasyonu
Tezin Türü: Yüksek Lisans
Tezin Yürütüldüğü Kurum: Gazi Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, KİMYA ANABİLİM DALI, Türkiye
Tezin Onay Tarihi: 2015
Tezin Dili: Türkçe
Öğrenci: SEVİLAY SARITAŞ
Danışman: BEKİR SARI
Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu
Özet:Bu çalışmada; kimyasal polimerleşme yöntemiyle, yükseltgen olarak demir(III) klorür (FeCl3) ve çözücü olarak susuz kloroform (CHCl3) kullanılarak polifuran (PF) sentezlendi. PF'nin uygun oranlarında; poli(vinil asetat) (PVAc) ve poli(vinil klorür) (PVC) termoplastik polimerleri ile (PVAc/PVC/PF) üçlü kompozitleri ve magnetit (Fe3O4) katkılı (PVAc/PVC/PF/Fe3O4) nanokompoziti toz ve film halinde hazırlandı. Elde edilen özgün iletken filmlerin, belirli sıcaklık aralığında (25-50℃) katlanabilme ve ilk haline dönebilme, manyetik alan duyarlı olma gibi üstün özelliklere sahip olduğu gözlendi. Hazırlanan örneklerin; yapısal ve ısıl özellikleri, yüzey morfolojileri, iç yapıları ve yüzey pürüzlülüğü sırasıyla FTIR, Termogravimetrik Analiz (TGA), Taramalı Elektron Mikroskobu (SEM), Geçirimli Elektron Mikroskobu (TEM) ve Atomik Kuvvet Mikroskobu (AFM) ile incelendi. Örneklerin iletkenlikleri, oda sıcaklığında ve farklı sıcaklıklarda dört nokta tekniği ile ölçüldü. Sıcaklık arttıkça kompozitlerin ve nanokompozitin iletkenliklerinin arttığı belirlendi. Gouy ölçümlerinden elde edilen değerler tüm polimerlerin iletkenlik mekanizmalarının polaron yapıda olduğunu gösterdi. X-Işını Kırınımı (XRD) analizi sonuçları, PF ve kompozitlerin amorf yapıda olduklarını, buna karşılık nanokompozitin ise kristal yapıda olduğunu gösterdi. Magnetit ve nanokompozitin manyetik özellikleri Titreşimli Örnek Manyetometresi (VSM) ile belirlendi, doygunluk mıknatıslanma (Ms) değerleri sırasıyla 58,9 ve 5,3 emu g-1 olarak tespit edildi. Magnetit katkılı nanokompozitin oda sıcaklığında süperparamanyetik özelliğe sahip olduğu bulundu.