V2O5 ince filmlerin Si alttaş üzerine büyütülmesi ve sıcaklığın film karakterleri üzerine etkisinin incelenmesi


Öğrenci: OĞUZ ÖZBAL

Danışman: SÜLEYMAN ÖZÇELİK

Özet:

Bu tez çalışmasında; V2O5 ince filmler Si alttaş üzerine farklı alttaş sıcaklıklarında RF magnetron püskürtme tekniği kullanılarak büyütüldü. Büyütülen ince filmler farklı sıcaklık değerlerinde tavlandı. V2O5 ince filmlerin yapısal, morfolojik, optik ve elektriksel özellikleri X-Işını Kırınım (XRD), Fourier Dönüşümlü Kızılötesi (FTIR), Atomik Force Mikroskop (AFM) ve Hall analiz teknikleri kullanılarak belirlendi. İnce filmlerdeki kristal oluşumu ve kristal kaliteleri XRD ile, kimyasal bağ yapısı FTIR spektrometre ile, yüzey morfolojisi ise AFM ile belirlendi. Elde edilen ölçüm sonuçlarından, filmlerin kristal kalitesinin artan alttaş sıcaklığı ile arttığı bulundu. Ayrıca, ince filmlerin yüzey pürüzlülüğü artan tavlama sıcaklığı ile arttığı bulundu. Hall analizleri incelendiğinde, özdirencin artan film sıcaklığı ile özdirencin azaldığı gözlendi.