Al/HfO2/p-Si (MIS) yapının elektriksel ve dielektrik özelliklerinin sıcaklık ve radyasyona bağlı incelenmesi


Tezin Türü: Doktora

Tezin Yürütüldüğü Kurum: Gazi Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, Türkiye

Tezin Onay Tarihi: 2013

Öğrenci: SEDA BENGİ

Danışman: MEHMET MAHİR BÜLBÜL

Özet:

Al/HfO2/p-Si Metal-Yalıtkan-Yarıiletken (MIS) yapının doğru ve ters gerilim akım-voltaj (I-V), kapasitans-voltaj (C-V) ve iletkenlik-voltaj (G/-V) karakteristikleri 80-400 K sıcaklık aralığında incelendi. Termoiyonik emisyon teorisi temel alınarak, sıfır potansiyel engel yüksekliği (B0) ve idealite faktörü (n) 80 K'de sırasıyla 0.28 eV ve 3.88; 400 K'de sırasıyla 0.90 eV ve 2.81 olarak elde edildi. Klasik Richardson ln(Io/T2)q/kT eğrisi lineer bir bölgeye sahip olup aktivasyon enerjisi ve Richardson sabitinin (A*) değerleri bu eğriden elde edildi. A* değeri p-Si için bilinen teorik değerden(≈ 32 A/cm2K2) oldukça küçüktür. I-V karakteristiklerinden 5 V' da ölçülen seri direnç değerleri 80 K'de 888.76 , 400 K'de 122.10  arasında değişmektedir. Ayrıca, arayüzey durumları yoğunluğunun enerji dağılım profili, sıcaklığa bağlı olarak etkin engel yüksekliği (e) ve idealite faktörünün voltaja bağlılığı dikkate alınarak elde edildi. Artan sıcaklıkla Nss değerlerinin azalması, oksit/yarıiletken arayüzeyinde moleküler yeniden yapılanmaya ve yeniden düzenlenmeye atfedildi. C-V ve G/-V eğrilerinden, yapının elektriksel özelliklerini belirleyen Nss ve Rs gibi temel parametrelerin sıcaklığa kuvvetle bağlı olduğu görülmektedir. Seri direnç varlığında pozitif gerilim C-V eğrilerinde bir pik gözlenmektedir ve bu pikin konumu artan sıcaklıkla daha düşük voltajlara doğru kaymaktadır. Aynı zamanda Nss yoğunluğu, sıcaklığa bağlı olarak C-V ve G/w-V eğrilerinden de Hill-Coleman methodu kullanılarak elde edildi. Bunlara ilaveten, yapının sıcaklığa bağlı dielektrik özellikleri üç farklı frekans için ve 80-400 K sıcaklık aralığında incelendi. Al/HfO2/p-Si yapının durulma mekanizmalarını anlamak için elektrik modülüs özellikleri araştırıldı. Diğer taraftan Al/HfO2/p-Si yapının elektriksel karakteristikleri üzerine radyasyon etkisini görmek amacıyla, numune Co60ışını) kaynağı kullanılarak 100 kGy doza maruz bırakıldı. I-V karakteristiklerinden hesaplanan engel yüksekliği radyasyondan sonra azalırken, idealite faktörü ve seri direnç değerlerinin radyasyondan sonra arttığı gözlenmiştir. Aynı zamanda taşıyıcı yoğunluğu, kapasitans ve iletkenlik değerlerinin radyasyon ile azaldığı görülmüştür.